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在SCR技术设计和应用中，影响大庆让胡路脱硝效果的主要因素包括：
1.温度对催化剂反应性能的影响
目前，运用于电厂烟气脱硝中的的SCR催化剂有很多，不同的催化剂,其适宜的反应温度也差别各异。如果反应温度太低,催化剂的活性降低,脱硝效率下降，则达不到脱硝的效果。并且，如果催化剂在低温下持续运行,将导致催化剂的 性损坏；如果反应温度太高,NH3容易被氧化,生成NOx的量增加,甚至会引起催化剂材料的相变,导致催化剂的活性退化。
采用何种催化剂与SCR反应器的布置方式是密切相关的，一般可以把催化剂的种类分为三类：高温催化剂(345℃～590℃)、大庆让胡路中温催化剂(260℃～380℃)和低温催化剂(80℃～300℃)。目前,国内外SCR系统大多采用高温催化剂,反应温度在315℃～400℃。
2.空速（SV）对催化剂性能的影响
烟气在大庆让胡路SCR反应塔中的空塔速度是SCR 的一个关键设计参数, 它是烟气体积流量(标准状态下的湿烟气))与SCR反应塔中催化剂体积比值, 反映了烟气在SCR 反应塔内的停留时间的大小。烟气的空塔速度越大,其停留时间越短。一般SCR 的脱硝效率将随烟气空塔速度的增大而降低。空塔速度通常是根据SCR反应塔的布置、大庆让胡路脱硝效率、大庆让胡路附近烟气温度、大庆让胡路附近允许的氨逃逸量以及粉尘浓度来确定的。
3.摩尔比对NO转换的影响
理论上，lmoI的NO需要1moI的NH3去脱除。根据化学反应平衡知识，NH3量不足会导致NOx的脱除效率降低，但在工程实践中，NH3过量又会带来NH3对环境的二次污染，一般在设计过程中，NH3的值控制在0.8～1.2的范围内比较合适，并且结合机组负荷的变化而变化。
4.催化剂的选择对SCR工艺的影响
SCR系统中的重要组成部分是催化剂，催化剂的选择不仅仅是针对反应温度的不同来选择，并且要考虑SCR装置的压降、大庆让胡路布置的合理性等因素。当前流行的成熟催化剂有蜂窝式、大庆让胡路同城波纹状和平板式等。平板式催化剂一般是以不锈钢金属网格为基材负载上含有活性成份的载体压制而成；蜂窝式催化剂一般是把载体和活性成份混合物整体挤压成型；波纹状催化剂是外形如起伏的波纹，从而形成小孔。当前各种催化剂活性成分大部分为WO3和V2O5。
各种催化剂性能参数的比较见表
PNCR系统采用选择性非催化还原工艺系统，还原介质为高分子颗粒。通过向燃烧室内温度在600℃到1100℃之间的烟气区域，喷射一定量的高分子颗粒，在高温下高分子颗粒与氮氧化物反应生成N2、大庆让胡路本地H2O等无害物质，从而减少氮氧化物的排放量。
大庆让胡路PNCR脱硝系统主要由供料系统、大庆让胡路附近加热系统、大庆让胡路同城储料系统、大庆让胡路附近供气系统、大庆让胡路附近喷射系统、大庆让胡路附近计量系统和控制系统组成。
高分子颗粒由供料系统到储存料仓里，并对料仓进行热风干燥处理后经混合器由供气系统与喷射系统到炉膛内进行脱硝。计量系统根据窑炉运行情况和NOx排放情况调节喷射量，送入喷射系统。还原剂的供应量能满足锅炉不同负荷的要求，调节方便、大庆让胡路当地灵活、大庆让胡路附近可靠。
SCR脱硝优势与其他脱硝方法比较，采用的SCR脱硝具有不可比拟的优势：①脱硝效率高，高达96％，对NOx的脱除效果十分显著。能满足初始NOx浓度高的烟气脱硝，不仅节约成本，而且节约了反应器空间占地位置。②技术成熟。自20世纪80年代初开始逐渐应用于大庆让胡路燃煤锅炉烟气脱硝，经过几十年的理论研究和实际应用，SCR技术已经被公认为烟气脱硝的主流技术；在低温（180℃-380℃）烟气脱硝领域，有很多的应用业绩。③无二次污染物。反应终产物为无害的N2和H2O，没有废液产生，无二次污染。④脱硝装置性能可靠、大庆让胡路附近稳定，设备可用率达98％以上。SCR脱硝技术在全球范围内有数百台的成功应用业绩和十几年的运行经验，作为末端技术具有良好的可保障性。⑤工艺系统简单，容易操作。
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选择性非催化还原(SNCR脱硝)脱除 NOx技术是把含有 NHx 基的还原剂(如氨气、大庆让胡路附近 氨水或者尿素等)喷入炉膛温度为 800℃~1 100℃的区域，该还原剂迅速热分解成 NH3 和其它副产物，随后 NH3 与烟气中的 NOx 进行 SNCR 反应而生成 N2。?
大庆让胡路SNCR 还原 NO的反应对于温度条件非常敏感，炉膛上喷入点的选择，也就是所谓的温度窗口的选择，是 SNCR还原 NO效率高低的关键。一般认为理想的温度范围为 700℃~1 100℃, 并随反应器类型的变化而有所不同。当反应温度低于温度窗口时，由于停留时间的限制，往往使化学反应进行的程度较低反应不够彻底，从而造成 NO 的还原率较低，同时未参与反应的 NH3 增加也会造成氨气泄漏。而当反应温度高于温度窗口时，NH3 的氧化反应开始起主导作用.
从而，NH3 的作用成为氧化并生成 NO，而不是还原 NO为 N2。总之，SNCR 还原 NO的过程是上述两类反应相互竞争、大庆让胡路附近 共同作用的结果。 如何选取合适的温度条件同时兼顾减少还原剂的泄漏成为 SNCR 技术成功应用的关键。
